電化學(xué)顯微鏡是顯微鏡的一種，基于電化學(xué)原理工作，可測量微區(qū)內(nèi)物質(zhì)氧化或還原所給出的電化學(xué)電流。利用驅(qū)動非常小的電極（探針）在靠近樣品處進(jìn)行掃描，樣品可以是導(dǎo)體、絕緣體或半導(dǎo)體，從而獲得對應(yīng)的微區(qū)電化學(xué)和相關(guān)信息，目前可達(dá)到的zui高分辨率約為幾十納米。可用于研究導(dǎo)體和絕緣體基底表面的幾何形貌；固/液、液/液界面的氧化還原活性；分辨不均勻電極表面的電化學(xué)活性；研究微區(qū)電化學(xué)動力學(xué)、研究生物過程及對材料進(jìn)行微加工。

　　掃描電化學(xué)工作站（電化學(xué)顯微鏡）是市場上競爭性的單通道電化學(xué)工作站。掃描電化學(xué)工作站可通過計算機(jī)的USB接口或以太網(wǎng)來連接控制。可接入局域網(wǎng)內(nèi)，經(jīng)授權(quán)的計算機(jī)可以進(jìn)行遠(yuǎn)程訪問。同時，它具有兩個模擬輸入和一個模擬輸出，用來控制外部儀器，如旋轉(zhuǎn)圓盤電極或石英晶體微天平以及記錄所生成的數(shù)據(jù)。

　　電化學(xué)顯微鏡保護(hù)的條件：

　　1.所用材料和介質(zhì)的多樣性，須根據(jù)每一保護(hù)系統(tǒng)的具體條件以及每一操作階段的特定狀況確定自然腐蝕電位與保護(hù)范圍。

　　2.質(zhì)與要保護(hù)的構(gòu)筑物的表面積之比明顯低于外部微區(qū)掃描電化學(xué)保護(hù)。因此，電流分布特別是在無防腐層表面上的電流分布受到了限制。帶有插入構(gòu)件結(jié)構(gòu)復(fù)雜的設(shè)備的內(nèi)部電化學(xué)保護(hù)尤其困難，只能靠增加電極數(shù)量以及恰當(dāng)安排多支保護(hù)電極才可能達(dá)到均勻的電流分布。

　　3.部電化學(xué)保護(hù)中必須考慮到要保護(hù)的構(gòu)筑物上與輔助電極上的電化學(xué)反應(yīng)與相應(yīng)的一連串的反應(yīng)，必須根據(jù)電解質(zhì)和其純度純度要求選擇微區(qū)掃描電化學(xué)保護(hù)的類型和輔助陽極的材料；必須查明正在發(fā)生什么電解質(zhì)反應(yīng)以及這些反應(yīng)發(fā)展到什么程度就會造成有害影響。

　　4.防腐層時，無論是已經(jīng)涂敷的還是計劃采用的，必須確定它們是否具有必要的穩(wěn)定性以承受保護(hù)電流的電化學(xué)作用。

　　5.保護(hù)電流的作用或者由于犧牲陽極的自腐蝕，能夠析出氫氣，其可能形成可以爆炸的氣體混合物。假如陽極需要插進(jìn)氣相空間，此時不得使用具有催化活性的貴金屬陽極或者有貴金屬鍍層的陽極。從安全考慮，應(yīng)當(dāng)避免使用具有催化活性的貴金屬陽極。

　　6.入構(gòu)件與要保護(hù)的構(gòu)筑物實現(xiàn)電絕緣并且不包括在微區(qū)掃描電化學(xué)保護(hù)的范圍內(nèi)時，應(yīng)當(dāng)確定此保護(hù)電流是否會導(dǎo)致破壞性干擾和采取什么保護(hù)措施。

　　7.確定當(dāng)操作不穩(wěn)定時，以及當(dāng)溫度與電解質(zhì)濃度發(fā)生變化時是否需要采取特別措施。