為推進(jìn)中國(guó)石墨烯等碳納米材料的研究和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學(xué)深圳研究生院舉行。

    本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應(yīng)用開(kāi)發(fā)等為主題，多個(gè)國(guó)家和地區(qū)的學(xué)者和產(chǎn)業(yè)界人士，從學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進(jìn)展和產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀，為國(guó)內(nèi)外杰出科學(xué)家與企業(yè)家搭建一個(gè)交流與合作的平臺(tái)。

巨納集團(tuán)SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國(guó)*石墨烯國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的*起草單位和組長(zhǎng)單位，除了與國(guó)內(nèi)外專(zhuān)家學(xué)者交流之外，還會(huì)為大家介紹zui的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關(guān)的工作，歡迎到現(xiàn)場(chǎng)與我們交流。

多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD

SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結(jié)合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點(diǎn)，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應(yīng)用范圍，是目前功能zui強(qiáng)大的等離子體CVD系統(tǒng)。

       主要特點(diǎn) 

• 主要用于石墨烯表面層數(shù)減薄、刻蝕、修飾、改性
• 多種工作氣體下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體輝光放電： 
• 氬氣、氫氣、氮?dú)?、氧氣、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化   硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
• 等離子體密度可調(diào)，變化范圍大（109-1013 cm-3）
• 可與磁控濺射同時(shí)工作形成共沉積（zui多可與四個(gè)磁控濺射靶材形成等離子 體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜 

廣泛的應(yīng)用范圍 

• 光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構(gòu)與刻蝕）
• 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）
• 半導(dǎo)體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）
• 納米材料的生長(zhǎng)與納米形貌的刻蝕構(gòu)造 

熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團(tuán)展臺(tái)，溝通交流，共商合作大業(yè)！