激光共聚焦掃描顯微鏡

簡要描述：激光共聚焦掃描顯微鏡通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現(xiàn)實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體晶片，F(xiàn)PD產(chǎn)品，MEMS設備，玻璃基板，材料表面等方面擁有解決方案。

產(chǎn)品分類

詳細介紹

激光共聚焦掃描顯微鏡是一種準確、可靠的三維(3D)掃描系統(tǒng)，通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現(xiàn)實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體晶片，F(xiàn)PD產(chǎn)品，MEMS設備，玻璃基板，材料表面等方面擁有*的解決方案。

Features & Benefits（性能及優(yōu)勢）：

高分辨無損傷光學3D測量自動傾斜補償

實時共焦成像簡單的數(shù)據(jù)分析模式

多種光學變焦雙Z掃描

大范圍拼接半透明基材的特征檢測

實時CCD明場和共聚焦成像無樣品準備

自動聚焦

Application field（應用領域）：

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度，寬度，角度，面積和體積，例如

-半導體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池，太陽能電池紋理，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析

Specification(激光共聚焦掃描顯微鏡規(guī)格）：

Model	Microscope NS-3500						備注
	Controller NS-3500E
物鏡倍率		10x	20x	50x	100x	150x
觀察/ 測量范圍	水平 (H): μm	1400	700	280	140	93
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105	70
工作范圍: mm		16.5	3.1	0.54	0.3	0.2
數(shù)值孔徑(N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95	0.95
光學變焦		x1 to x6
總放大倍率		178x to 26700x
觀察/測量光學系統(tǒng)		針孔共聚焦光學系統(tǒng)
高度測量	測量掃描	長掃描 : 10 mm
	顯示分辨率	0.001 μm
	重復率 σ	0.010 μm					注 1以100×/ 0.95物鏡對標準樣品（步長1μm）進行100次測量。
寬度測量	顯示分辨率	0.001 μm
	重復率 3σ	0.02 μm					注 2 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品（5μm間距）進行100次測量
幀記憶	像素	1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
	單色圖像	12 bit
	彩色圖像	8-bit for RGB each
	高度測量	16 bit
幀速率	表面掃描	20 Hz to 160 Hz
	線掃描	~8 kHz
自動功能		自動增益
激光共焦測量光源	波長	405nm
	輸出	~2mW
	激光等級	Class 3b
激光接收元件		PMT (光電倍增管)
光學觀察光源	燈	10W LED
光學觀察照相機	成像元件	1/2” 彩色圖像 CCD 傳感器
	記錄分辨率	640x480
	自動調整	增益, 快門速度, White balance
數(shù)據(jù)處理單元		PC
電源	電源電壓	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	電流消耗	500 VA max.
重量	顯微鏡	Approx. ~200 kg (Measuring head unit : ~12 kg)
	控制器	~8 kg

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